PVDとは｜物理蒸着法によるコーティング技術
- 更新日：
- 2025/09/29 （公開日： 2025/09/29 ） 著者： 甲斐 智
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PVD（ぴーぶいでぃー）は、Physical Vapor Deposition（物理蒸着法）の略で、真空中で金属などを蒸発・イオン化し、基材表面に薄膜を形成する方法です。
プラズマでコーティング材をイオン化するため、400～600℃程度の低温で成膜でき、母材の寸法変化や強度低下を抑えられます。
硬度と耐摩耗性に優れ、ドリルやフライス、エンドミルなど高強度工具に広く利用されます。
また装飾分野でも意匠性と耐久性を兼ね備えた膜として活用されています。
- 参照元コラム
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PVDを要約すると…
- 真空・プラズマを利用した物理蒸着法
- 400～600℃の低温処理で母材に優しい
- 切削工具や装飾分野で広く利用
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この用語の監修者
- 甲斐 智（Satoshi Kai）
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1979年 神戸生まれ、多摩美術大学修了後、工作機械周辺機器メーカーに入社。
2020年に株式会社モノトを設立。長年に渡り工作機械業界・FA業界のWebマーケティングに携わる。
researchmap ID：R000028669
J-GLOBAL ID 202101006017437323 - 所属
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- 株式会社モノト 代表
- 一般社団法人日本機械学会 特別員
- 公益社団法人精密工学会 賛助
- 東京商工会議所
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